磷离子注入石英基纳米金刚石薄膜的微结构和电学性能研究

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作者赵海啸
单位浙江工业大学;
来源广东化工
出版年2014
期号16
摘要
在石英衬底上沉积纳米金刚石(NCD)薄膜,并进行1×1014 cm-2剂量的磷离子注入,再在800、900℃下低真空退火30分钟。对薄膜的微结构和电学性能的研究表明,薄膜呈n型电导,具有载流子浓度低、迁移率高及电阻率高的导电特性。Raman光谱结果显示900℃退火样品的ID/IG值最大,说明薄膜内sp2碳发生团簇,有序度较高。XPS测试结果表明,石英衬底上沉积的纳米金刚石薄膜容易被氧化。这些因素使得薄膜的载流子浓度较低而迁移率较高。

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