Ⅳ类石英玻璃是一种重要的特种玻璃材料,在光学探测、惯性导航等领域内具有重要作用。光学均匀性是表征光学玻璃结构均匀性的一种重要方法,Ⅳ类石英玻璃的光学均匀性与硅氧网络结构分布一致性密切相关。本文通过四步法光学均匀性测试、紫外-可见-近红外光谱、红外反射光谱等方法,研究了羟基、金属杂质及氧缺陷的径向分布特点和硅氧键键角的径向变化,采用相关性分析研究了各影响因素对样品光学均匀性的影响。结果表明:表示玻璃光学均匀性的波前畸变t_0Δn沿玻璃半径先降低后升高;羟基的径向分布整体上与t_0Δn的径向变化相反,200 nm处透过率径向变化、硅氧键键角径向变化与t_0Δn的径向变化相近;羟基对Ⅳ类石英玻璃光学均匀性的影响较小,金属杂质、氧缺陷及硅氧键键角的径向变化是影响Ⅳ类石英玻璃光学均匀性的主要因素。