物理所实现高质量大面积外延石墨烯与Ru基底表面间的SiO_2绝缘插层

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单位中科院物理研究所;
来源高科技与产业化
出版年2021
期号03
摘要
<正>石墨烯独特的结构蕴含丰富且新奇的物理,不仅为基础科学提供了重要的研究平台,而且在电子、光电子、柔性器件等领域显现出广阔的应用前景。为了充分发挥石墨烯的优异性质并实现其工业生产与应用,须找到合适的材料制备方法,使制备出的石墨烯能够同时满足大面积、高质量、与现有的硅工艺兼容等条件。目前为止,大面积、高质量石墨烯单晶通常都是在过渡金属表面外延生长而获得的,但后续复杂的转移过程通常会引起石墨烯质量的退化和界面的污染,从而阻碍石墨烯在电子器件方面的应用。

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