石墨烯薄膜技术发展综述——基于DII数据库的分析

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单位华中科技大学公共管理学院;
来源科技创业月刊
出版年2021
期号03
摘要
通过对石墨烯薄膜技术专利数量的时间序列统计,形成技术发展趋势图,分析石墨烯薄膜技术的发展波动规律。研究表明,石墨烯薄膜技术总体态势呈现上升式循环发展,专利数量逐年增长;波动特征主要表现为大涨大落,波长较短,波幅逐步扩大。发展波动受政府专项计划、技术突破点、研究主体数量变化和技术应用领域拓展等因素影响。构建石墨烯薄膜技术发展波动周期预测模型,使用现有的专利数据,对石墨烯薄膜技术未来10年的发展趋势进行合理预测,为制定石墨烯薄膜技术战略和产业政策提供参考。

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