石墨烯自2004年被文献报道后,便以其独特的结构和优异的性能,引起了研究者的巨大兴趣。以CVD法在金属衬底生长石墨烯是目前最常用的石墨烯制备方法,而商业应用的电子器件往往是基于介电材料为基底制作的。因此,需通过一定的方法将石墨烯转移到介电材料上,而这一过程可能会破坏石墨烯的结构或对其造成污染。引用大量文献介绍了在介电材料衬底上直接生长石墨烯的研究进展。