二维结构的石墨烯拥有的优异性能,使之成为近年来化学,物理,材料科学等领域的研究热点。本文以热解石墨为碳源,采用脉冲激光沉积方法,在单晶Cu(111)基片上沉积石墨烯薄膜,并对比了高真空气氛和氢气气氛对石墨烯薄膜沉积的影响。薄膜沉积的实验条件由基片温度、氢气分压和脉宽决定。通过原子力显微镜、高分辨透射电子显微镜、选区电子衍射和拉曼光谱研究了薄膜的微观形貌和结晶度,并发现基片温度和氢气压强主要决定了石墨烯薄膜的结晶度,其中在氢气气氛中400℃时获得了高质量的石墨烯薄膜。