<正>据报道,北京大学纳米化学研究中心的研究人员开发出一种新的卷对卷连续快速生长石墨烯薄膜的方法,设计并研制了可达到中试水平的石墨烯卷对卷化学气相沉积系统,通过对石墨烯成核与生长的调控,实现了大面积单层石墨烯薄膜在工业铜箔基底上卷对卷宏量制备。研究人员还开发了卷对卷热压印-电化学快速鼓泡转移方法,避免了铜箔刻蚀的常规转移工艺,实现了石墨烯从铜箔生长基底直接