<正>据报道,中国科学院半导体研究所半导体超晶格国家重点实验室与中国人民大学教授等人合作,利用共振拉曼光谱技术,对转角多层石墨烯的层间呼吸模进行了系统研究。他们发现在转角多层石墨烯界面处的层间呼吸耦合与正常Bernal堆垛多层石墨烯的强度相当。以石墨烯为代表的二维材料具有优良的电学性能和光学性能,因此被期待可用来发展更薄、导电速度更