因石墨烯独特的结构和优异的性能,自发现以来一直是研究的热点。以铜箔为基底的化学气相沉积(CVD)法是目前制备石墨烯的一种重要方法。文章综述了石墨烯的主要制备方法及其存在的优缺点;对石墨烯以铜基底化学气相沉积法的生长机理、最新研究进展及在多个领域的应用前景进行了分析。