运用低温氧等离子体对化学气相沉积法生长的单层石墨烯进行处理,通过拉曼光谱仪和X射线光电子能谱仪来表征处理前后的变化,重点探讨了低温氧等离子体处理对单层石墨烯微观结构的影响。在拉曼光谱中,处理后的石墨烯出现了明显的D峰和D′峰,同时G峰和2D峰也出现了明显的退化,而G峰峰位右移,2D峰峰位左移。通过X射线光电子能谱表征,表明处理后向石墨烯中引入了较多的官能团。利用原子力显微镜研究了处理前后SiO_2/Si基底上石墨烯的表面形貌,发现低温氧等离子体处理后石墨烯表面高度明显增加,同时褶皱减少。