一种新型石墨烯/多孔氮化硅复合材料的制备及性能研究

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单位江苏大学机械工程学院微纳米科学技术研究中心;
来源电子元件与材料
出版年2017
期号01
摘要
基于等离子体增强化学气相沉积法、干法刻蚀技术、化学气相沉积法及腐蚀基底法,制备了一种新型石墨烯与多孔氮化硅复合材料;该结构的氮化硅衬底具有不同的形貌结构(孔阵列及沟道阵列)。利用扫描电子显微镜、原子力显微镜、拉曼光谱仪对石墨烯/多孔氮化硅复合材料进行表征和表面应力特性研究。结果表明:不同形貌结构的氮化硅与石墨烯复合后的表面应力不同。表面粗糙度、表面形貌及表面面积是影响复合材料表面应力的主要因素。其中,氮化硅多孔形貌结构(应变0.1%~0.12%)与氮化硅沟道形貌结构(应变0.16%~0.27%)相比,更有利于缓解石墨烯/多孔氮化硅复合材料的表面应力集中问题。

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