化学气相沉积法在液态铜衬底上制备石墨烯的研究进展

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作者王宇薇
单位锦州师范高等专科学校环境科学学院;
来源辽宁工业大学学报(自然科学版)
出版年2022
期号03
摘要
石墨烯具有独特的物理和化学性质,其在微电子器件和储能器件等领域有着广阔的应用前景。化学气相沉积(CVD)法是制备石墨烯最成熟的技术之一。目前,多数CVD法利用固体金属催化剂制备石墨烯,制备的石墨烯普遍具有结构缺陷,如褶皱、裂纹和晶界等。最近,利用液态金属催化剂尤其是液态铜制备石墨烯,能够降低石墨烯的缺陷密度。本文对利用液态铜制备石墨烯的研究进展进行了简要的论述和分析。

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