采用天然半导体矿物黑钨矿作为光催化剂用于降解废水中的土霉素。研究了固液比、光照强度、初始浓度对土霉素降解的影响,并解析了降解机理和路径。结果表明,可见光下黑钨矿对土霉素具有较好的降解效果,在浓度为15 mg/L、pH=4.5、固液比为1.0 g/L、光照强度60 W的条件下,120 min时土霉素的去除效率可以达到94.3%,黑钨矿对于土霉素的去除速率符合一级动力学反应规律。淬灭实验和电子顺磁光谱结果表明羟基自由基(·OH)和超氧阴离子自由基(·O₂-)是导致土霉素降解的主要活性氧化物种,分别在120 min时降解了20.4%和10%的土霉素。液相色谱-质谱联用显示土霉素经过羟基化、去甲基化、和脱羰化降解为中间产物,使其化学毒性下降,有利于工艺在抗生素处理中的工业化应用。